книги Электронные книги Наука, техника, медицина

Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники

Код 4649609

  • 1581 кб
  • январь 2017

Нет в продаже

pdf

Аннотация к книге "Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники"

В монографии представлены результаты развития процессов химического осаждения из газовой фазы металлических и диэлектрических пленок с использованием нетрадиционных летучих исходных соединений, а именно, комплексных соединений металлов и кремнийорганических соединений, синтезируемых в ИНХ СО РАН и ИрИХ СО РАН. Рассматриваются результаты исследования физико-химических свойств исходных соединений. Изложены принципы выбора исходных соединений, основанные на исследовании их термодинамических...

Оставить комментарий

Оцените книгу:

Правообладатель: ФГУП «Издательство СО РАН»
Дата выхода: январь 2017
Размер файла: 1581 Кб
Поставщик контента: ООО «ЛитРес»

Вместе с этой книгой покупают