Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Проведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. Приведены основные характеристики элементов микроструктур ИМС, получаемых в процессах ХОГФ, а также технологические характеристики самих процессов и используемых реагентов. Рассмотрены параметры...
ISBN: 5-94836-039-3
Издательство:
Техносфера
Дата выхода: январь 2006
Найденных опечаток пока нет
Добавить запись