книги Наука, техника, медицина Техника Легкая промышленность

Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application. Characterization of Hafnium Based Oxide Thin Films Deposited by CVD

Код 1455338

Нет в продаже

Аннотация к книге "Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application. Characterization of Hafnium Based Oxide Thin Films Deposited by CVD"

Novel materials with high-dielectric(k) constants are rapidly gaining attention for their application as gate insulator for future MOS transistors. This book provides the basic principles underlying chemical vapor deposition (CVD) of hafnium oxide and hafnium silicate thin films for high-k application. In addition to the deposition fundamentals, the discussions in the book provide valuable insights to various chemical and physical characterization techniques that can be applied to thin films in...

Оставить комментарий

Оцените книгу:

Издательство: Книга по требованию
Дата выхода: июль 2011
ISBN: 978-3-8383-3388-5
Объём: 232 страниц
Масса: 374 г
Размеры(высота, ширина, толщина), см: 23 x 16 x 2

Книга находится в категориях

Химическая промышленность

Вместе с этой книгой покупают

Просмотренные товары

Просмотренные категории

Теория вероятностей Транспорт