книги
-16%

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

Код 4902973

Наличие на складе

Склад в Москве

Ожидаемое поступление (если вы сделаете заказ прямо сейчас): 22.06.2024; планируемая отправка: 23.06.2024

Склад в С.-Петербурге

Ожидаемое поступление (если вы сделаете заказ прямо сейчас): 25.06.2024; планируемая отправка: 26.06.2024

Аннотация к книге "Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения"

Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие...

Оставить комментарий

Оцените книгу:

Издательство: Техносфера
Дата выхода: июль 2018
ISBN: 978-5-94836-519-0
Объём: 464 страниц
Масса: 867 г

Вместе с этой книгой покупают