книги Наука, техника, медицина Естественные науки Точные науки Физика

Plasma ashing

Код 2405312

  • ISBN: 978-5-5113-4062-3

Нет в продаже

Аннотация к книге "Plasma ashing"

High Quality Content by WIKIPEDIA articles! In semiconductor manufacturing plasma ashing is the process of removing the photoresist from an etched wafer. Using a plasma source, a monatomic reactive species is generated. Oxygen or fluorine are the most common reactive species. The reactive species combines with the photoresist to form ash which is removed with a vacuum pump.

Оставить комментарий

Оцените книгу:

ISBN: 978-5-5113-4062-3

Книга находится в категориях

ГОСТы, стандарты Путешествия, туризм, природа Домашние животные

Вместе с этой книгой покупают

Просмотренные товары